在高溫下易于(yu)與空氣中(zhong)的(de)O、H、N等(deng)元素及包埋(mai)料中(zhong)的(de)Si、Al、Mg等(deng)元素發生反應，在鑄件表面(mian)形(xing)成(cheng)表面(mian)污染層，使其優良的(de)理化性(xing)能變差，硬(ying)度增加、塑性(xing)、彈性(xing)降(jiang)低(di)，脆(cui)性(xing)增加。

   鈦(tai)的密(mi)度小，故鈦(tai)液流動(dong)時慣性(xing)小，熔鈦(tai)流動(dong)性(xing)差(cha)致(zhi)使鑄(zhu)(zhu)(zhu)流率低。鑄(zhu)(zhu)(zhu)造溫度與鑄(zhu)(zhu)(zhu)型溫差(cha)(300℃)較大(da)，冷(leng)卻(que)快，鑄(zhu)(zhu)(zhu)造在保護性(xing)氣氛中進行，鈦(tai)鑄(zhu)(zhu)(zhu)件表面和內部(bu)難免有氣孔等缺陷出現，對(dui)鑄(zhu)(zhu)(zhu)件的質量影(ying)響很大(da)。

   因此(ci)，鈦鑄件的(de)(de)表面處(chu)理與(yu)其它牙(ya)用(yong)合(he)金相(xiang)比顯得更為(wei)重要，由于鈦的(de)(de)獨特的(de)(de)理化性(xing)能，如導熱(re)系(xi)數小、表面硬度(du)、及(ji)彈性(xing)模量低，粘性(xing)大，電導率低、易氧化等(deng)，這對鈦的(de)(de)表面處(chu)理帶來了很(hen)大的(de)(de)難(nan)度(du)，采(cai)(cai)用(yong)常(chang)規的(de)(de)表面處(chu)理方(fang)法(fa)很(hen)難(nan)達到理想的(de)(de)效果。必須(xu)采(cai)(cai)用(yong)特殊的(de)(de)加(jia)工(gong)方(fang)法(fa)和操(cao)作手(shou)段。

   鑄件(jian)的后期表面處理不僅是為了(le)得(de)到平滑光亮的表面，減少(shao)食(shi)物及菌斑等的積聚和粘附，維(wei)持患(huan)者的正(zheng)常的口腔微生態(tai)的平衡，同時也增(zeng)加了(le)義(yi)齒(chi)的美(mei)感(gan)；更重(zhong)要(yao)的是通(tong)過這些表面處理和改性過程，改善鑄件(jian)的表面性狀(zhuang)和適合性，提高(gao)義(yi)齒(chi)的耐磨、耐蝕和抗應力疲勞等理化特性。

一、 表面反應層的去除

   表面反應層(ceng)是影響鈦鑄(zhu)件(jian)理化性能(neng)的主(zhu)要因素(su)，在鈦鑄(zhu)件(jian)研(yan)磨拋光前，必(bi)須達到完全去(qu)除(chu)表面污染層(ceng)，才能(neng)達到滿意的拋光效(xiao)果。通過噴砂后酸洗(xi)的方法可(ke)完全去(qu)除(chu)鈦的表面反應層(ceng)。

1. 噴砂(sha)： 鈦鑄件(jian)的(de)噴砂(sha)處理一般選用(yong)白剛玉粗(cu)噴較(jiao)好，噴砂(sha)的(de)壓力(li)要(yao)比非(fei)貴金屬(shu)者較(jiao)小，一般控制在0.45Mpa以(yi)下。因為(wei)，噴射壓力(li)過大時,砂(sha)粒沖擊(ji)鈦表(biao)面產生(sheng)激烈火花，溫度升(sheng)高可(ke)與鈦表(biao)面發生(sheng)反應,形成二(er)次(ci)污染，影響(xiang)表(biao)面質(zhi)量。時間為(wei)15~30秒，僅去(qu)除鑄件(jian)表(biao)面的(de)粘砂(sha)、表(biao)面燒結層(ceng)(ceng)和部分(fen)和氧化層(ceng)(ceng)即(ji)可(ke)。其余的(de)表(biao)面反應層(ceng)(ceng)結構(gou)宜采(cai)用(yong)化學(xue)酸洗的(de)方法快速去(qu)除。

2. 酸(suan)(suan)(suan)洗(xi)(xi)(xi)： 酸(suan)(suan)(suan)洗(xi)(xi)(xi)能夠(gou)快速完(wan)全去除表(biao)面反應層(ceng)，而(er)(er)表(biao)面不會(hui)產生其(qi)他元(yuan)素的(de)污染。HF—HCl系和HF—HNO3系酸(suan)(suan)(suan)洗(xi)(xi)(xi)液都可(ke)(ke)用于(yu)鈦的(de)酸(suan)(suan)(suan)洗(xi)(xi)(xi)，但HF—HCl系酸(suan)(suan)(suan)洗(xi)(xi)(xi)液吸氫量(liang)(liang)較大，而(er)(er)HF—HNO3系酸(suan)(suan)(suan)洗(xi)(xi)(xi)液吸氫量(liang)(liang)小，可(ke)(ke)控(kong)制(zhi)HNO3的(de)濃(nong)度減少吸氫，并可(ke)(ke)對表(biao)面進行(xing)光亮處(chu)理，一般HF的(de)濃(nong)度在(zai)3%~5%左右，HNO3的(de)濃(nong)度在(zai)15%~30%左右為(wei)宜。

二、鑄造缺陷的處理

內部(bu)氣(qi)(qi)孔(kong)和(he)縮孔(kong)內部(bu)缺陷(xian)：可等熱靜(jing)壓(ya)技術(hot isostatic pressing)去除, 但對義齒的精度會產(chan)生(sheng)影響，.好用(yong)(yong)X線(xian)探(tan)傷后，表面磨除暴露(lu)氣(qi)(qi)孔(kong)，用(yong)(yong)激光補焊(han)。表面氣(qi)(qi)孔(kong)缺陷(xian)可直接用(yong)(yong)激光局(ju)部(bu)焊(han)接修補。

三、研(yan)磨與拋(pao)光

1． 機械(xie)研(yan)磨(mo)： 鈦(tai)的(de)化學反(fan)應性高，導(dao)熱(re)系數低(di)，粘性大(da)，機械(xie)研(yan)磨(mo)研(yan)削比低(di)，且(qie)易(yi)(yi)于磨(mo)料磨(mo)具發(fa)生(sheng)反(fan)應，普通磨(mo)料不宜用(yong)于鈦(tai)的(de)研(yan)磨(mo)與(yu)拋光，.好(hao)采用(yong)導(dao)熱(re)性好(hao)的(de)超硬磨(mo)料，如金剛(gang)石、立方氮(dan)化硼等，拋光線速(su)度一般(ban)為900~1800m/min.為宜，否則(ze)，鈦(tai)表(biao)面(mian)易(yi)(yi)發(fa)生(sheng)研(yan)削燒傷(shang)和微裂紋。

2． 超聲(sheng)波研(yan)磨： 通過超聲(sheng)振動(dong)作用，使(shi)磨頭(tou)和(he)被研(yan)磨面間(jian)的(de)(de)磨粒與(yu)被研(yan)磨面產生相對運動(dong)而達到研(yan)磨、拋光的(de)(de)目的(de)(de)。其優(you)點在(zai)于常規旋轉工(gong)具研(yan)磨不到的(de)(de)溝(gou)、窩和(he)狹窄部(bu)位變得容易了，但較大的(de)(de)鑄件研(yan)磨效果還不能令人滿意。

3． 電(dian)(dian)解機(ji)械復合研(yan)磨(mo)(mo)： 采用(yong)導電(dian)(dian)磨(mo)(mo)具，在磨(mo)(mo)具與研(yan)磨(mo)(mo)面(mian)之間施(shi)加(jia)電(dian)(dian)解液和電(dian)(dian)壓(ya)，通(tong)過機(ji)械和電(dian)(dian)化學拋光的共同作用(yong)下，降(jiang)低(di)表面(mian)粗糙度(du)提高表面(mian)光澤(ze)度(du)。電(dian)(dian)解液為0.9NaCl，電(dian)(dian)壓(ya)為5v，轉速為3000rpm/min.，此方法只能研(yan)磨(mo)(mo)平面(mian)，對復雜的義齒支架的研(yan)磨(mo)(mo)還處于研(yan)究階段。

4． 桶(tong)研(yan)(yan)(yan)磨：利用(yong)研(yan)(yan)(yan)磨桶(tong)的(de)(de)(de)公轉(zhuan)與自轉(zhuan)所產生的(de)(de)(de)離(li)心(xin)力，使桶(tong)內的(de)(de)(de)義齒(chi)與磨料相對(dui)摩擦運動(dong)而起到降(jiang)低表(biao)面粗(cu)糙度(du)的(de)(de)(de)研(yan)(yan)(yan)磨目的(de)(de)(de)。研(yan)(yan)(yan)磨自動(dong)化、效率高，但只能降(jiang)低表(biao)面粗(cu)糙度(du)而不能提高表(biao)面光澤度(du)，研(yan)(yan)(yan)磨的(de)(de)(de)精(jing)度(du)較差，可用(yong)與義齒(chi)精(jing)拋光前的(de)(de)(de)去毛(mao)刺和(he)粗(cu)研(yan)(yan)(yan)磨。

5． 化學(xue)(xue)拋(pao)(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)：化學(xue)(xue)拋(pao)(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)是(shi)(shi)通(tong)過金(jin)屬(shu)在化學(xue)(xue)介質中的(de)(de)(de)(de)氧化還原反應而(er)達到整(zheng)平拋(pao)(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)的(de)(de)(de)(de)目(mu)的(de)(de)(de)(de)。其(qi)優點是(shi)(shi)化學(xue)(xue)拋(pao)(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)與(yu)金(jin)屬(shu)的(de)(de)(de)(de)硬度(du)(du)、拋(pao)(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)面(mian)積與(yu)結(jie)構(gou)形狀無關，凡與(yu)拋(pao)(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)液接觸的(de)(de)(de)(de)部位均被拋(pao)(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)，不(bu)須特殊復(fu)(fu)雜設(she)備(bei)，操作(zuo)(zuo)簡便，較(jiao)(jiao)適(shi)合(he)于復(fu)(fu)雜結(jie)構(gou)鈦義(yi)齒支架的(de)(de)(de)(de)拋(pao)(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)。但化學(xue)(xue)拋(pao)(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)的(de)(de)(de)(de)工藝參數較(jiao)(jiao)難控(kong)制(zhi)，要(yao)(yao)求在不(bu)影響(xiang)義(yi)齒精度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)情(qing)況下能夠對義(yi)齒有良(liang)好的(de)(de)(de)(de)拋(pao)(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)效(xiao)果(guo)。較(jiao)(jiao)好的(de)(de)(de)(de)鈦化學(xue)(xue)拋(pao)(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)液是(shi)(shi)HF和(he)HNO3 按一定(ding)比例配制(zhi)，HF是(shi)(shi)還原劑，能溶(rong)解鈦金(jin)屬(shu)，起(qi)(qi)到整(zheng)平作(zuo)(zuo)用，濃度(du)(du)<10%, HNO3起(qi)(qi)氧化作(zuo)(zuo)用，防止鈦的(de)(de)(de)(de)溶(rong)解過度(du)(du)和(he)吸氫，同時可產生光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)亮作(zuo)(zuo)用。鈦拋(pao)(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)液要(yao)(yao)求濃度(du)(du)高，溫度(du)(du)低(di)，拋(pao)(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)時間短(1~2min.)。

6． 電(dian)解(jie)(jie)拋(pao)光：又稱(cheng)為電(dian)化(hua)學拋(pao)光或者陽極(ji)溶(rong)解(jie)(jie)拋(pao)光，由(you)于鈦(tai)的電(dian)導率較低，氧化(hua)性能極(ji)強(qiang)，采用有(you)(you)水(shui)酸(suan)性電(dian)解(jie)(jie)液如(ru)HF—H3PO4、HF—H2SO系電(dian)解(jie)(jie)液對鈦(tai)幾乎不(bu)能拋(pao)光，施(shi)加外(wai)電(dian)壓(ya)后，鈦(tai)陽極(ji)立刻發生氧化(hua)，而(er)使陽極(ji)溶(rong)解(jie)(jie)不(bu)能進行。但采用無水(shui)氯(lv)化(hua)物電(dian)解(jie)(jie)液在低電(dian)壓(ya)下(xia)，對鈦(tai)有(you)(you)良(liang)好的拋(pao)光效果，小(xiao)型試件可得(de)到鏡面拋(pao)光，但對于復雜修復體仍不(bu)能達到完全拋(pao)光的目的，也許(xu)采用改變陰極(ji)形(xing)狀和附加陰極(ji)的方(fang)法能解(jie)(jie)決這一難題，還有(you)(you)待于進一步(bu)研究。

四(si)、鈦的表面(mian)改(gai)性

1． 氮(dan)化(hua)：采(cai)用等離子(zi)體滲氮(dan)、多(duo)弧離子(zi)鍍、離子(zi)注入和(he)激光氮(dan)化(hua)的等化(hua)學熱處理技術， 在鈦(tai)義齒表(biao)面(mian)(mian)形成金黃色TiN滲鍍層，從而提高(gao)鈦(tai)的耐磨性(xing)、耐腐蝕性(xing)和(he)耐疲勞性(xing)。但技術復雜，設備(bei)昂貴，用于(yu)鈦(tai)義齒的表(biao)面(mian)(mian)改性(xing)很難達到臨床(chuang)實用化(hua)。

2． 陽極氧(yang)化(hua)：鈦的(de)(de)陽極氧(yang)化(hua)技術(shu)較為容易，在一些氧(yang)化(hua)性介質中，外(wai)加電壓的(de)(de)作用下，鈦陽極可形成較厚的(de)(de)氧(yang)化(hua)膜，從而提高其耐(nai)腐蝕性和耐(nai)磨性和耐(nai)候性。陽極氧(yang)化(hua)的(de)(de)電解液一般采(cai)用H2SO4、H3PO4和有(you)機酸水溶液。

3． 大(da)氣氧化：鈦(tai)在(zai)高溫大(da)氣中可形成較厚堅固的無水氧化膜，對鈦(tai)的全(quan)面腐蝕、間隙(xi)腐蝕都(dou)有(you)效，方法(fa)比較簡(jian)便。

五、 著色

   為了增加(jia)鈦(tai)(tai)義齒的美感、防(fang)止(zhi)鈦(tai)(tai)義齒在自然條件(jian)下的繼續氧(yang)化(hua)的變色(se)(se)(se)，可采用(yong)(yong)表(biao)面(mian)(mian)(mian)氮(dan)化(hua)處(chu)理(li)、大氣氧(yang)化(hua)和陽極氧(yang)化(hua)法表(biao)面(mian)(mian)(mian)著色(se)(se)(se)處(chu)理(li)，使表(biao)面(mian)(mian)(mian)形成淡(dan)黃色(se)(se)(se)或金黃色(se)(se)(se)，提(ti)高鈦(tai)(tai)義齒的美感。陽極氧(yang)化(hua)法利用(yong)(yong)鈦(tai)(tai)的氧(yang)化(hua)膜對光的干涉(she)作用(yong)(yong)，自然發色(se)(se)(se)，可通過改變槽電壓在鈦(tai)(tai)表(biao)面(mian)(mian)(mian)形成多彩(cai)的顏色(se)(se)(se)。

六、 其他表面處理

1: 表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)粗化(hua)(hua)：為了(le)提(ti)高(gao)(gao)(gao)鈦與飾面(mian)(mian)(mian)樹脂(zhi)的(de)(de)粘(zhan)結性能(neng)，必須對(dui)鈦表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)進(jin)行粗化(hua)(hua)處(chu)理，提(ti)高(gao)(gao)(gao)其粘(zhan)結面(mian)(mian)(mian)積。臨(lin)床上(shang)常采用噴砂(sha)粗化(hua)(hua)處(chu)理，但噴砂(sha)會造成鈦表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)的(de)(de)氧(yang)化(hua)(hua)鋁的(de)(de)污染，我們采用草酸刻(ke)(ke)蝕(shi)(shi)的(de)(de)方法(fa)，得到(dao)良好的(de)(de)粗化(hua)(hua)效果(guo)，刻(ke)(ke)蝕(shi)(shi)1h表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)粗糙度（Ra）可達到(dao)1.50±0.30μm，刻(ke)(ke)蝕(shi)(shi)2h Ra為2.99±0.57μm，比單獨噴砂(sha)的(de)(de)Ra（1.42±0.14μm）提(ti)高(gao)(gao)(gao)一倍多，其粘(zhan)結強度提(ti)高(gao)(gao)(gao)了(le)30%。

2: 抗高溫(wen)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)的(de)表(biao)面(mian)處(chu)理：為(wei)了防止鈦在高溫(wen)下的(de)急劇氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)，在鈦表(biao)面(mian)形成(cheng)鈦硅化(hua)(hua)(hua)合物及鈦鋁化(hua)(hua)(hua)合物，可防止鈦在700℃以上溫(wen)度下的(de)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)。這(zhe)種(zhong)表(biao)面(mian)處(chu)理對鈦的(de)高溫(wen)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)非常有效，也(ye)許鈦表(biao)面(mian)涂(tu)覆這(zhe)類化(hua)(hua)(hua)合物，對鈦瓷結(jie)合有利，仍須進一步研(yan)究。